Download or read book Contribution à l'étude de la diffusion des dopants dans le silicium written by Daniel Mathiot and published by . This book was released on 1983 with total page 158 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: LES PRINCIPAUX POINTS DU MODELE DEVELOPPES SONT LES SUIVANTS: LA DIFFUSION EST ASSISTEE PAR LES DEUX TYPES DE DEFAUTS PONCTUELS INTRINSEQUES (LACUNES ET AUTOINTERSTITIELS), PAR L'INTERMEDIAIRE DE PAIRES IMPURETE-DEFAUT EN EQUILIBRE LOCAL AVEC LES IMPURETES ET DEFAUTS ISOLES; POUR UNE CONCENTRATION EN DONNEURS SUPERIEURE A 10**(20) CM**(-3), UNE ACCELERATION DE LA DIFFUSION A LIEU A CAUSE DE LA PERCOLATION DES LACUNES DANS LES AMAS D'IMPURETES EN POSITION DE 5EME VOISINS DANS SI; POUR LES FORTES CONCENTRATIONS DE B ET AS, LA DIFFUSION EST FREINEE PAR LA PRESENCE DE COMPLEXES NEUTRES ET IMMOBILES; LES RECOMBINAISONS BIMOLECULAIRES ENTRE DEFAUTS ONT LIEU PAR REACTION DIRECTE ENTRE LACUNES ET AUTOINTERSTITIELS, ET PAR L'INTERMEDIAIRE DES PAIRES IMPURETE-DEFAUT. CE MODELE PERMET DES SIMULATIONS NUMERIQUES PRECISES AUSSI BIEN EN ATMOSPHERE NEUTRE QUE POUR DES RECUITS OXYDANTS