Contribution à l'étude de la diffusion d'impuretés dans le silicium sous oxydation
Author | : Emmanuel Scheid |
Publisher | : |
Total Pages | : 111 |
Release | : 1987 |
ISBN-10 | : OCLC:489750666 |
ISBN-13 | : |
Rating | : 4/5 (66 Downloads) |
Download or read book Contribution à l'étude de la diffusion d'impuretés dans le silicium sous oxydation written by Emmanuel Scheid and published by . This book was released on 1987 with total page 111 pages. Available in PDF, EPUB and Kindle. Book excerpt: ANALYSE DES INSUFFISANCES DES THEORIES RELATIVES A LA DIFFUSION DES IMPURETES ET A L'EVOLUTION DES DEFAUTS D'EMPILEMENT SOUS CONTRAINTE. L'INTRODUCTION DE LA DIFFUSION COUPLEE DES DEFAUTS PONCTUELS PERMET DE DECRIRE L'EXPANSION 3D DE L'EFFET D'OED-ORD